深圳市專業(ye)從事(shi)AR光(guang)(guang)波導顯(xian)示技術和產品開發的(de)“國家高新技術企業(ye)”，致力于(yu)成為領先(xian)的(de)AR近眼(yan)顯(xian)示光(guang)(guang)學模組(zu)供應商(shang)，和AR光(guang)(guang)學行業(ye)的(de)領軍企業(ye)。

提供的工(gong)業(ye)純水設(she)備 KWD-4T/H+2RE

    本(ben)方案涉及(ji)流程及(ji)設備(bei)是工業用純水(shui)項目，要求如下：

產 水 指 標：

   一級(ji)RO反滲透≤10μS/cm;

   二級RO反(fan)滲透≤5μS/cm；

   EDI產水(shui)電阻(zu)率(lv)≥15MΩ·cm；  

   拋(pao)光混床電阻率≥18MΩ·cm；

1.1.系統總進水：市政自來水≥10T/h  

1.2.系統最終產水：超(chao)純(chun)水4T/h。

1.3.系統(tong)配置(zhi)：自(zi)動預處理(li)、兩級反滲透(tou)、EDI系統(tong)、拋光(guang)混床(chuang)系統(tong)及相關輔助設備。

1.4.系(xi)統(tong)得率：一(yi)級反滲透≥70％，二級RO、EDI濃水不(bu)排放，回前段再利用。

1.5.運行方式(shi)：全自動運行。

1.6.供水(shui)方式：連續產出（24小時運行）。