工業級(ji)去離子(zi)水(shui)(shui)設備多用(yong)(yong)于(yu)(yu)制藥(yao)行(xing)業、電(dian)(dian)子(zi)級(ji)清洗用(yong)(yong)水(shui)(shui)，和實驗室(shi)分(fen)析用(yong)(yong)水(shui)(shui)，大規模集成電(dian)(dian)路元(yuan)器(qi)件的(de)生(sheng)產用(yong)(yong)水(shui)(shui)設備可采用(yong)(yong)，電(dian)(dian)子(zi)元(yuan)件廠(chang)，在(zai)焊接(jie)和組裝過程(cheng)中(zhong)的(de)沖洗用(yong)(yong)水(shui)(shui)。依據電(dian)(dian)子(zi)元(yuan)件生(sheng)產工藝不同，其用(yong)(yong)水(shui)(shui)標準(zhun)中(zhong)(即(ji)GB/T11446.1-1997)有可為四級(ji)(一級(ji)最高電(dian)(dian)導率(lv)18MO-CM以上(shang)，二級(ji)電(dian)(dian)阻率(lv)不低于(yu)(yu)15MO-CM，3級(ji)電(dian)(dian)阻率(lv)12MO-CM, 4級(ji)為0.5MO-CM)。
EDI 模塊制水(shui)工(gong)(gong)藝(yi)或者是拋光混床工(gong)(gong)藝(yi)，去離子水(shui)設備(bei)前期也需要安(an)裝預處理，通(tong)過(guo)反滲透膜過(guo)濾把誰的(de)電(dian)導率(lv)降低(di)后然后再通(tong)過(guo)EDI模塊處理降低(di)誰的(de)電(dian)阻(zu)率(lv)達到(dao)電(dian)子級工(gong)(gong)業去離子水(shui)標準，一般電(dian)阻(zu)率(lv)均大于18MO-CM。
工(gong)業生產去(qu)(qu)離(li)子(zi)(zi)水設備，其實就是將水中(zhong)的(de)離(li)子(zi)(zi)（鉀(jia)離(li)子(zi)(zi)、鈣離(li)子(zi)(zi)、鈉離(li)子(zi)(zi)、鋁離(li)子(zi)(zi)、氯離(li)子(zi)(zi)含量、硫酸(suan)根、重碳(tan)酸(suan)根、硅等）去(qu)(qu)除(chu)的(de)設備，促使(shi)水的(de)電導率減少，電阻上升，各行業對(dui)出水標(biao)準要求不(bu)(bu)一樣，使(shi)得去(qu)(qu)離(li)子(zi)(zi)水設備所挑選的(de)加工(gong)工(gong)藝(yi)也不(bu)(bu)一樣，花費的(de)成(cheng)本也自(zi)然不(bu)(bu)同。
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