工(gong)業(ye)級去離子水設(she)備多用(yong)(yong)于制藥行業(ye)、電(dian)子級清洗用(yong)(yong)水，和實(shi)驗(yan)室分(fen)析用(yong)(yong)水，大規模(mo)集成電(dian)路元器件(jian)的(de)生產用(yong)(yong)水設(she)備可采用(yong)(yong)，電(dian)子元件(jian)廠，在焊接和組裝過(guo)程中的(de)沖洗用(yong)(yong)水。依據電(dian)子元件(jian)生產工(gong)藝不同，其用(yong)(yong)水標準(zhun)中(即GB/T11446.1-1997)有可為四(si)級(ji)(ji)(一級(ji)(ji)最高(gao)電導(dao)率18MO-CM以上，二級(ji)(ji)電阻率不低于(yu)15MO-CM，3級(ji)(ji)電阻率12MO-CM, 4級(ji)(ji)為0.5MO-CM)。
EDI 模(mo)塊制水(shui)工(gong)藝(yi)或者(zhe)是拋(pao)光(guang)混床工(gong)藝(yi)，去離子水(shui)設備前(qian)期也需(xu)要安裝預處(chu)理，通過(guo)反滲透膜過(guo)濾把誰的(de)電(dian)(dian)導率(lv)降低(di)后(hou)然(ran)后(hou)再通過(guo)EDI模(mo)塊處(chu)理降低(di)誰的(de)電(dian)(dian)阻率(lv)達到電(dian)(dian)子級(ji)工(gong)業去離子水(shui)標(biao)準，一般電(dian)(dian)阻率(lv)均大于18MO-CM。按(an)國家有關用水(shui)標(biao)準(GB/T11446.1-1997)
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